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佐伯 正克; 平林 孝圀
Radiochimica Acta, 38, p.37 - 41, 1985/00
ホウケイ酸ガラス及び石英ガラス上へのトリチウムの吸着に及ぼす電離放射線の効果を調べた。6.65~13.3kPaのトリチウムガス(HT又はDT)雰囲気下に試料を置き、
Coの
線を2.9
10
~1.110
Gy照射した。トリチウム吸着量はトリチウムガスの圧力(P)及び吸着線量(R)の積の平方根(√R・P)に対して直線的に増加した。吸着量の増加は表面のみで認められ、内部の吸着量は変化しなかった。しかし、内部に吸着したトリチウムの脱離化学形は、線照射を行わなかった場合と全く異なり、全てのトリチウムが化学吸着に変換されたことを示した。さらに、線照射を行わない場合、吸着量はトリチウムガスの比放射能とともに増加した。これらの結果から、トリチウムの化学吸着は電離放射線(
及び線)により生ずる比較的長寿命の欠陥と分子状トリチウム(HT又はDT)が反応することにより起こると結論した。
平林 孝圀; 佐伯 正克; 立川 圓造
Journal of Nuclear Materials, 126, p.38 - 43, 1984/00
被引用回数：38 パーセンタイル：94.45(Materials Science, Multidisciplinary)ガス状トリチウム(HT-ガス)とステンレス鋼(SUS316)表面との相互作用について、昇温脱離法による研究を行なった。ステンレス鋼表面に収着したトリチウムの昇温脱離スペクトル中には4つのピークが、430(HT-I),540(HTO),750(HT-II)および970K(HT-III)付近に現われ、トリチウムは少なくとも、4つの異なる状態で収着されていること、また、各収着状態からのトリチウムの脱離に要する活性化エネルギーは、20
4(HT-I),277(HTO),559kJ/mol(HT-II)であることが見いだされた。これらの結果から、次のような結論を得た。収着トリチウムの約90%は収着過程でOT
イオンを形成しており、このOTイオンは脱離過程で表面酸化物の触媒作用によりHTOになる。収着トリチウムの約10%はHTの形で脱離する。その内の約1/2は解離して収着されており、完全に脱離するには、970K以上に加熱する必要があるのに対し、残りの約1/2は解離せずに収着しており、きわめて容易に脱離する。
佐伯 正克; 平林 孝圀
Radiochimica Acta, 35, p.233 - 238, 1984/00
ホウケイ酸ガラス表面へのトリチウムの吸着機構を、吸着させるトリチウムガスと脱離してくるトリチウムガスの同位体組成変化を追跡することにより調べた。分子状とリチウム(HT,DT及びT
)の吸着は物理吸着と化学吸着の2様式で起る。化学吸着の機構は2つの化学反応により説明し得た。すなわち、表面に存在する水酸基の軽水素とトリチウム原子の交換反応と、SiO結合のSiT及びSiOT基への部分的還元反応である。これらの過程にはトリチウム自身の線が影響しており、トリチウムの吸着を促進している。物理吸着成分はガラス内部まで深く侵入する。分子状トリチウムノ一部はその分子状態を保ったまま、ガラスを透過すると考えられる。
